分類：科學新知
2006/10/18 08:44
台灣鍍膜科技協會 相關鍍膜技術研究及應用
分類：PVD 鍍膜技術
2006/10/17 20:13
碧威股份有限公司www.tool-tool.com轉述：中華民國鍍膜科技研討會暨國科會計劃研究成果發表會優等論文
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氧化銦錫薄膜內應力和其附著性質之研究
以反應磁控濺鍍法在壓克力基材上披覆氧化銦錫薄膜
氧在介面的加入對鋁／鉻薄膜與氧化銦錫玻璃結合強度的影響
Electronic properties of phosphorus-doped triode-type diamon
以MPCVD方式利用電漿鞘電位降沉積奈米尖錐類鑽碳膜
雙離子束濺鍍沈積氮化矽薄膜之微結構與電性研究
Deposition of CrN Coatings by Pulsed Cathodic Arc Evaporation Process
Substrate bias effect on amorphous diamond-like carbon films
Effect of H2 Addition on Growth Behavior and Hardness of TiN
Texture evolution of functionally graded titanium carbonitri
Characterization of the macroparticles in arc ion-plated
TiNAlN/VN、AlN/ZrN及AlN/TiN超晶格多層膜之合成與特性分析
2002中華民國鍍膜科技研討會暨國科會計劃研究成果發表會優等論文
* 雙離子束濺鍍沈積氮化矽薄膜之微結構與電性研究
作者：陳冠霖、謝文彬、李英杰、薛富盛
服務單位：中興大學材料工程學系
* The Young’s Modulus of Chromium Nitride Films
作者：陳弘穎、呂福興
服務單位：中興大學材料工程學系
* 以電漿輔助化學氣相沈積法製備奈米碳管及鈀奈米金屬線
作者：詹立雄a、洪國翔a、蕭達慶a、林天智b、施漢章a
服務單位：a清華大學材料科學與工程所
b中興大學材料科學與工程所
* 偏壓效應對奈米碳管的成長與特性之影響
作者：蔡佳倫、陳家富
服務單位：交通大學材料系
* 以鎳及非晶質合金為催化劑成長一維奈米碳材
作者：廖坤厚、丁志明
服務單位：成功大學材料科學與工程所
2001中華民國鍍膜科技研討會暨國科會計劃研究成果發表會優等論文
* Effects of substrate pretreatment and Fe, Co, pt catalysts on Si-C-N films and nanotubes formation
作者：張惠林，郭正次
服務單位：國立交通大學材料科學與工程系所
* 電漿離子佈植Cu/Pd晶種無電鍍銅膜之退火效應研究
作者：林建宏1，謝維仁1，李慈莉2，陳偉鑫1，寇崇善3，施漢章1
服務單位：國立清華大學工程與系統科學系1，台灣積體電路製造股份有限公司 故障分析部2，國立清華大學物理學系3
* 共價鍵材料場效發射顯示技術之研究(II)
作者：郭正次，蔡明和，林兆焄，張惠林
服務單位：國立交通大學材料科學與工程系所
· 利用田口式實驗規劃法探討中空陰極放電離子鍍著法(HCD-IP鍍著氮化鋯於不繡鋼的製程參數薄膜之腐蝕性質
作者：喻冀平，周文俊
服務單位：國立清華大學工程與系統科學系
· Characterization of the macroparticles in arc ion-plated CrN films
作者：薛富盛，蕭銘華，王慶鈞
服務單位：國立中興大學材料工程系所
引用：http://tw.myblog.yahoo.com/jw!EOUWG0WRGBKHrRDl8JmGBC4-/article?mid=1175
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